【产品参数】

名称：钨靶、钨圆靶、钨溅射靶材

牌号：W1，W2

属性：

纯度：W≥99.95% 密度：10.2g/cm3 熔点：2610℃ 沸点：5560℃

技术条件：符合GB4187-84，ASTM F288-90

规格：

圆形靶：直径＞360mm*厚度＞1mm

板靶：长＜300mm*宽＜300mm*厚度＞1mm

旋转靶：直径＜360mm*厚度＞2mm

用途： 用于电子信息、平面显示器、溅射镀膜、表面涂层、PVD涂料、X射线 管、导电玻璃、光学玻璃、离子镀膜等行业，适用所有平面镀膜及旋转镀 膜系统等。

靶材：在溅射沉积技术中用作阴极的材料。该阴极材料在带正电荷的阳离 子撞击下以分子、原子或离子的形式脱离阴极而在阳极表面重新沉积。